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http://cicese.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1007/3679| Análisis y control de películas delgadas de dióxido de silicio sintetizadas por pulverización catódica reactiva Analysis and control of silicon dioxide thin films synthesized by reactive sputtering | |
| Lorena Conchita Cruz Gabarain | |
| NOEMI ABUNDIZ CISNEROS ROBERTO SANGINES DE CASTRO | |
| Acceso Abierto | |
| Atribución | |
| Películas delgadas porosas, pulverización catódica reactiva, emisión de plasma Porous thin films, reactive magnetron sputtering, optical emission spectroscopy | |
| En la industria del vidrio, los recubrimientos con películas delgadas pueden brindar distintas funciones como filtros antirreflejantes, de autolimpieza y de ahorro energético. Este tipo de funciones se pueden lograr con materiales transparentes tales como el dióxido de silicio (SiO2) poroso. En este trabajo, se propone estudiar el grado de porosidad en películas de dióxido de silicio crecidas por pulverización catódica reactiva bajo distintas condiciones, proponiendo la monitorización por espectroscopia óptica de emisión del plasma como método de control. Particularmente, se realiza un análisis espacial del plasma donde las zonas de interés son cerca del blanco y sustrato con el fin de relacionar las líneas de emisión del plasma con las propiedades ópticas de la película obtenidas por espectro-elipsometría y espectrofotometría. Se obtuvieron diferentes propiedades de las películas de SiO2 cambiando los parámetros de depósito, como la presión de trabajo, la potencia y la presión parcial de O2 dentro de la cámara de depósito. Se describen las condiciones óptimas de depósito para el crecimiento de SiO2 poroso. In the glass industry, thin film coatings can have different applications such as anti-reflective, self-cleaning and energy saving filters. Some of these can be achieved with transparent materials such as porous silicon dioxide. In this work, it is proposed to study the degree of porosity in silicon dioxide films grown by reactive sputtering. Optical emission spectroscopy (OES) is employed to monitor the spectral lines of the plasma as a method to control the degree of porosity. Particularly, a spatial analysis of the plasma is performed in the vicinity of the sputtering target surface and the substrate to relate the plasma emission lines to the optical properties of the film obtained via spectro-ellipsometry and spectrophotometry. Different properties of SiO2 films were achieved by changing deposition parameters such as working pressure, supplied power and partial pressure of O2 within the deposition chamber. The optimal deposition conditions to grow porous SiO2 are reported. | |
| CICESE | |
| 2022 | |
| Tesis de maestría | |
| Español | |
| Cruz Gabarain, L.C. 2022. Análisis y control de películas delgadas de dióxido de silicio sintetizadas por pulverización catódica reactiva. Tesis de Maestría en Ciencias. Centro de Investigación Científica y de Educación Superior de Ensenada, Baja California. 90 pp. | |
| PROPIEDADES DE LOS MATERIALES | |
| Aparece en las colecciones: | Tesis - Nanociencias |
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| Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
|---|---|---|---|---|
| tesis_Lorena Conchita Cruz Gabarain_10 marzo 2022.pdf | Versión completa de la tesis | 2.71 MB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |