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| Fecha de publicación | Título | Tipo de publicación/ Tipo de recurso | Autor(es) | Fecha de depósito |
|---|---|---|---|---|
| 1991 | Preparación a bajas temperaturas de SiO2, mediante procesos de plasma, usando como materiales fuente SiCl4 y O2 | Tesis de doctorado | Armando Ortiz Rebollo | - |