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http://cicese.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1007/2926| Estudio de los efectos por irradiación electrónica en Ag/Rb(1-x)K(x)Cl por medio de espectroscopía de electrones Auger. | |
| Lamberto Castro Arce | |
| Mario Humberto Farias Sanchez | |
| Acceso Abierto | |
| Atribución | |
| Cinética química | |
| Se prepararon tres muestras depositando películas de Ag (por evaporación térmica) sobre halogenuros alcalinos mixtos, Ag/Rb1-xKxCl, con fracciones molares de x = 0, 0.25 y 0.50 y se midió la topografía superficial mediante SEM, la cristalinidad de la película de Ag usando TEM y la concentración superficial como función del tiempo, aplicando varios flujos electrónicos (c/cm2s) con energía de haz incidente de 3 KeV, mediante AES. Se usaron modelos de teoría cinética de reacciones químicas para explicar el comportamiento de la dinámica superficial para obtener las constantes de velocidad de la reacción y las secciones transversales al haz de electrones. La película de Ag, con un espesor promedio de 100 nm, presenta huecos con un recubrimiento parcial de la superficie del Rb1-xKxCl de aproximadamente el 80%. Las cuatro dosis electrónicas aplicadas (corrientes de 20, 50, 100 y 200 nA) producen considerables daños estructurales en el volumen cercano a la superficie (aprox. 200 nm) -de los materiales irradiados. Estos daños son proporcionales a la dosis electrónica y se reflejan en cambios notorios de la composición elemental superficial de las muestras estudiadas, tanto de los metales alcalinos como del halógeno, mediante la acumulación de potasio, la acumulación y desorción de rubidio, y la desorción del cloro. La acumulación superficial del potasio se ajusta a una cinética de orden cero sin límite de saturación con un comportamiento de sumidero infinito. El valor medio de las secciones transversales para la acumulación superficial de potasio en las muestras con x = 0.25 y 0.50 es de QK = 7.1 x10-20 y 3.3x10-20 cm2, respectivamente. La acumulación y la evaporación del Rb se modelan mediante procesos secuenciales a una cinética de reacciones químicas de primer orden. El valor medio de las secciones transversales para la acumulación (Q1Rb) y evaporación (Q2Rb) del rubidio en las muestras, con fracción molar x = 0, 0.25 y 0.50 son de Q1Rb = 2.6x10-21, 2.5x10-21 y 1.7x10-21 cm2, Q2Rb = 3. 3x10-20, 4.71x10-20 y 2.4x10-20 cm2, respectivamente La evaporación del CI se modela mediante una cinética de reacciones químicas de primer orden, dando valores medios de la sección transversal para la evaporación, en las tres muestras de QC1 = 2.9 x 10 -20, 8 x 10-20 y 3.8 x 10-20 cm2, respectivamente. Three samples were prepared of Ag films deposited (by means of thermal ' evaporation) on mixed alkali halides, Ag/Rb1-xKxCl, with molar fractions of x = 0, 0.25 and 0.50 and it was measured the surface topography by means of SEM, the crystallinity of the Ag films by TEM and the surface concentration as a function of time, by applying several electronic fluxes (c/cm2s) with incident electron beam energy of 3 KeV, by means of AES. Chemical reaction kinetic models were used in order to explain the behavior of the surface dynamics with the purpose to obtain the reaction rate constants and the electron beam cross sections. The Ag film, with an average thickness of 100 nm, presents holes with a partial surface coverage of the Rb1-xKxCl of about 80%. The four applied electronic doses (intensities of 20, 50, 100 and 200 nA) produce considerable structural damage in the near surface volume (about 200 nm) of the irradiated materials. This damage is proportional to the electronic dose and is observed as notorious changes of the surface elemental composition of the studied samples, on the alkali metals as well as on the halogen, by accumulation of potassium, accumulation and desorption of rubidium, and desorption of chlorine. The accumulation of potassium on the surface fits zero order kinetics without limit of saturation and a behavior of infinite sink. The cross section average value for the surface accumulation of potassium in the samples with x = 0.25 and 0.50 es de QK = 7.1 x10-20 and 3.3x10-20 cm2, respectively. The accumulation and evaporation of Rb were modeled by sequential processes to a first order chemical reaction kinetics. The average value of the rubidium accumulation (Q1Rb) and evaporation (Q2Rb) cross sections on the samples, with molar fractions of x = 0, 0.25 and 0.50 are of Q1Rb = 2.6x10-21, 2.5x10-21 and 1.7x10-21 cm2, Q2Rb = 3. 3x10-20, 4.71x10-20 and 2.4x10-20 cm2, respectively. .The evaporation of Cl was modeled by means of a first order chemical reaction kinetics, obtaining average values for the evaporation cross sections, in the three samples of QC1 = 2.9 x 10 -20, 8 x 10-20 and 3.8 x 10-20 cm2, respectively. | |
| CICESE | |
| 1997 | |
| Tesis de maestría | |
| Español | |
| Castro Arce, L. 1997.Estudio de los efectos por irradiación electrónica en Ag/Rb(1-x)K(x)Cl por medio de espectroscopía de electrones Auger.. Tesis de Maestría en Ciencias. Centro de Investigación Científica y de Educación Superior de Ensenada, Baja California. 84 pp. | |
| OTRAS ESPECIALIDADES FÍSICAS | |
| Aparece en las colecciones: | Tesis - Física de Materiales |
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