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http://cicese.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1007/561| Estudio de películas delgadas de SiOx fabricadas mediante la técnica de evaporación térmica | |
| Roberto Soto Molina | |
| David Salazar Miranda | |
| Acceso Abierto | |
| Atribución | |
| Películas delgadas | |
| En este trabajo se presenta un estudio teórico y experimental de películas delgadas amorfas de películas delgadas amorfas de 𝑆𝑖𝑂𝑥 depositadas sobre sustratos de vidrio mediante la técnica de evaporación térmica. El estudio comprende el diseño, la fabricación y la caracterización de las películas delgadas. En el diseño y fabricación, se implementa un proceso de evaporación para la deposición de la película sobre el sustrato de vidrio. Las películas delgadas de 𝑆𝑖𝑂𝑥 depositadas sobre el sustrato se obtuvieron realizando secuencias de deposiciones con diferentes velocidades de deposición en un rango de 0.3 − 2 𝑛𝑚/𝑠 en dos condiciones diferentes de vacío en la cámara, un vacío deficiente ~10−4𝑇𝑜𝑟𝑟 y un alto vacío ~10−6𝑇𝑜𝑟𝑟. El proceso de caracterización de las películas delgadas
comprende el análisis de: grosor, espectro de absorción, espectro de transmisión y el índice de refracción. La técnica de espectroscopia elipsometrica se utilizó recurriendo a los modelos de 𝐿𝑜𝑟𝑒𝑛𝑡𝑧, 𝑇𝑎𝑢𝑐 − 𝐿𝑜𝑟𝑒𝑛𝑡𝑧 𝑦 𝐶𝑎𝑢𝑐ℎ𝑦, principalmente, para realizar los ajustes entre los datos experimentales a curvas de dispersión que cubren un rango de 250 − 1000 𝑛𝑚. De manera controlada se fabricaron películas cuyos índices de refracción varían entre 1.40 y 1.94. In this work, theoretical and experimental study of 𝑆𝑖𝑂𝑥 thin films deposited on glass substrate by the thermal evaporation technique is presented. The study comprised the design, fabrication and characterization of the thin films. In the design and manufacturing, an evaporation process for the deposition of the film on the glass substrate was implemented. 𝑆𝑖𝑂𝑥 thin films on the substrate were obtained by conducting deposition sequences with different deposition rates in the range of 0.3 − 2 𝑛𝑚/𝑠 in two different vacuum conditions in the chamber, a poor vacuum ~10−4𝑇𝑜𝑟𝑟 and a high vacuum~10−6𝑇𝑜𝑟𝑟. The characterization process of the thin films includes analysis of: thickness, absorption spectrum, transmission spectrum and refractive index. The spectroscopic ellipsometry technique was used applying the 𝐿𝑜𝑟𝑒𝑛𝑡𝑧, 𝑇𝑎𝑢𝑐 − 𝐿𝑜𝑟𝑒𝑛𝑡𝑧 𝑎𝑛𝑑 𝑡ℎ𝑒 𝐶𝑎𝑢𝑐ℎℎ𝑦 models mainly to make fitting to the experimental data dispersion curves covering a range of250 − 1000 𝑛𝑚. Layers with controlled properties and refractive indexes varying between 1.40 and 1.94 were produced. | |
| CICESE | |
| 2015 | |
| Tesis de maestría | |
| Español | |
| Soto Molina, R.2015.Estudio de películas delgadas de SiOx fabricadas mediante la técnica de evaporación térmica.Tesis de Maestría en Ciencias. Centro de Investigación Científica y de Educación Superior de Ensenada, Baja California. 95 pp | |
| ÓPTICA | |
| Aparece en las colecciones: | Tesis - Óptica |
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